IBM, Chartered, Infineon и Samsung перебираются на 45-нм
Четыре ведущих производителя микрочипов, компании IBM, Chartered, Infineon и Samsung, сообщили об успешном завершении совместной разработки технологии производства кремниевых кристаллов с проектной нормой 45-нм.
К данному моменту по новой технологии произведена первая рабочая микросхема, которая была изготовлена на фабрике IBM, выпускающей продукции из 300-мм кремниевых пластин. Решение включает в себя стандартный набор элементов, присущих большинству современных чипов, элементы ввода/вывода информации, а также интегрированные ячейки памяти.
Согласно предварительным результатам, сообщает вице-президент IBM по полупроводниковым исследованиям и разработкам, Лиза Су (Lisa Su), устройства, основанные на 45-нм ядре, будут на 30% более производительными по сравнению с 65-нм решениями. Естественно, новый техпроцесс приведет и к снижению площади чипа, что в свою очередь повысит количество изделий, выпускаемых с одной кремниевой пластины.
Ожидается, что первые коммерческие 45-нм устройства поступят в массовое производство к концу 2007 года, а выпускать соответствующую продукцию будут Chartered, IBM и Samsung.
